Materia prima fluoropolimérica · gases de grabado · refrigerantes
HFP, C4F8 y cloruro de metilo de alta pureza — materias primas y gases de proceso para la producción de fluoropolímeros, grabado de semiconductores y refrigeración.
| HFP purity | ≥ 99.90 % |
|---|---|
| C4F8 purity | ≥ 99.999 % |
| R40 purity | ≥ 99.50 – 99.90 % |
| Appearance | Colourless gas (HFP, C4F8, R40) |
| HFP water content | ≤ 0.002 % |
| Application | Fluoropolymer feedstock / etch gas / organosilicon feedstock |